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本发明公开了一种应用于钕铁硼表面处理的超薄镀层电镀方法,它在钕铁硼基材表面进行镀层,从里到外分别为电镀冲击铜层、电镀脉冲铜层、电镀镍钨合金层、低速化学镍镀层和高磷化学镍镀层;其中,钕铁硼基材表面镀层的总厚为4~4.5μm,电镀冲击铜层的厚度为0.5~0.6μm,电镀脉冲铜层的厚度为0.8~1.0μm,电镀镍钨合金层的厚度为0.3~0.5μm,低速化学镍镀层的厚度为0.4~0.5μm。现有常规化学镀镍只有一层常规高磷化学镍,本发明采用双层化学镀镍,即再正常镀高磷化学镍前,先采用低镀速低孔隙率的特殊
(19)国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 113699567 B
(45)授权公告日 2022.08.26
(21)申请号 202110991972.1 C25D 3/38 (2006.01)
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