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本发明公开了悬浮液、研磨液及其制备方法,涉及半导体材料技术领域。本发明的悬浮液,所述悬浮液的原料包括十二烷基苯磺酸钠、三聚磷酸钠、丙烯酰胺‑丙烯酸钠聚合物、磺甲基化聚丙烯酰胺、n‑羟甲基化丙烯酰胺、植酸、水,所述研磨液包括以下原料:研磨粉、研磨油、悬浮液、去离子水。本发明公开了悬浮液、研磨液及其制备方法,使用了本发明悬浮液的研磨液,具有良好的均匀性,悬浮液能够有效减少研磨液中研磨粉在混合物中的堆积沉淀,进而保证了晶片研磨质量。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113698914 A
(43)申请公布日 2021.11.26
(21)申请号 202110780254.X
(22)申请日 2021.07.09
(71)申请人 威科赛乐微电子股份有限公司
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