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本公开实施例公开了一种薄膜沉积方法和薄膜沉积设备，所述薄膜沉积方法方法包括：往反应腔室内通入原子量大于氩气的惰性气体；在往所述反应腔室内通入所述惰性气体的过程中，在所述反应腔室内的靶材和基片之间施加电离电压，使所述惰性气体电离产生惰性气体离子轰击所述靶材；当所述反应腔室内的气体压强达到预设值时，停止通入所述惰性气体；向所述反应腔室内施加磁场，以在所述磁场的作用下使所述靶材电离产生的等离子体中的带电粒子轰击所述靶材，以使所述靶材的组成粒子沉积在所述基片上。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113718219 A
(43)申请公布日 2021.11.30
(21)申请号 202111007035.4
(22)申请日 2021.08.30
(71)申请人 长江先进存储产业创新中心有限责
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