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本发明属于功率半导体技术领域,具体的说是涉及一种逆导型MOS栅控晶闸管及其制造方法。本发明中的一种逆导型MOS栅控晶闸管,主要是通过缩短常规RC‑MCT器件的FS层宽度,增大P型阳极区上方的电阻,从而减小器件正向导通过程中的回跳电压,改善器件正向导通过程中的snapback效应;本发明中的一种逆导型MOS栅控晶闸管的制造方法,能够与现有MOS栅控晶闸管工艺相兼容。本发明的有益效果为:在不牺牲器件正向阻断能力的基础上,改善了器件正向导通过程中的snapback效应,提升了器件在正向导通过程中的稳定
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113725295 A
(43)申请公布日 2021.11.30
(21)申请号 202111020893.2
(22)申请日 2021.09.01
(71)申请人 电子
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