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本发明涉及一种用于在激光沉积过程中控制基板上的薄膜中的应力的方法，该方法包括以下步骤：提供激光沉积装置，其包括腔室，腔室有：靶保持器，靶保持器有靶；基板保持器，基板保持器有面对靶的基板；以及窗口；激光沉积装置还包括激光束，激光束通过腔室的窗口被引导至靶处的点上，用于产生靶材料的等离子体羽流，并使得靶材料沉积在基板的表面部分上，以形成靶材料的薄膜；在基板上确定多个离散表面部分；使靶点一个接一个地与各离散表面部分对齐，并产生等离子体羽流，以使靶材料沉积在各离散表面部分上；根据与靶点对齐的离散表面部分
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113737138 A
(43)申请公布日 2021.12.03
(21)申请号 202110581651.4
(22)申请日 2021.05.27
(30)优先权数据
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