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一种窄分布中粒度四氧化三钴的制备方法.pdfVIP

一种窄分布中粒度四氧化三钴的制备方法.pdf

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    一种窄分布中粒度四氧化三钴的制备方法，包括以下步骤：溶液的配制，合成反应，过滤、洗涤及干燥。本发明合成采用高浓度溶液，大流量进料，大大提升生产效率；通过过程PH阶段性调整，控制生长速度，改善产品形貌，杜绝微粉产出；采用本发明方法制备出的窄分布中粒度四氧化三钴产品粒度分布较好，Dmin≥2um，D10≥4‑6um，D50:7.5‑9um，Dmax≤35um，（D90‑D10）/D50≤85%。

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113735185 A (43)申请公布日 2021.12.03 (21)申请号 202110980805.7 (22)申请日 2021.08.25 (71)申请人 金川集团股份有限公司

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