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2023-07-02 发布于四川
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基板处理方法和基板处理装置.pdf

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本发明提供一种能够更切实地抑制显影的进行量由于基板上的位置的不同而产生偏差的基板处理方法和基板处理装置。基板处理方法包括：在使晶圆以第一转速旋转、使接液面与晶圆的表面相对的状态下，从喷出口向晶圆的表面供给显影液，一边使接液面与显影液接触一边使喷嘴移动，从而在晶圆的表面上形成显影液的液膜；在液膜形成在晶圆的表面上之后，在来自喷出口的显影液的供给停止了的状态下，以比第一转速低的第二转速使晶圆旋转；在以第二转速使晶圆旋转之后，以比第一转速高的第三转速使晶圆旋转；在以第三转速使晶圆旋转之后，使晶圆的转速

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113745098 A (43)申请公布日 2021.12.03 (21)申请号 202110930665.2 H01L 21/67 (2006.01)

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