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本发明公开了一种选择性铜蚀刻液,该蚀刻液包括氧化剂、有机羧酸、螯合剂、pH调节剂和铜蚀刻加速剂。本发明所述选择性铜蚀刻液能够在高效蚀刻金属铜的同时保证金属钨的低蚀刻速率,最大程度地避免对金属钨的蚀刻。在蚀刻过程中,咪唑等pH调节剂稳定蚀刻液pH,避免蚀刻液pH的大幅波动,从而对金属铜和钨的蚀刻速率及蚀刻稳定性造成较大的波动;螯合剂快速与蚀刻液中生成的铜离子形成配位键进行螯合,避免蚀刻液中铜离子的累积造成氧化剂双氧水的分解,影响蚀刻液的稳定性;金、银和铂族金属(钌、铑、钯、锇、铱、铂)等贵金属与有
(19)国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 113737183 B
(45)授权公告日 2022.08.05
(21)申请号 202110926379.9 C23F 1/44 (2006.01)
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