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本发明涉及掩模的制造方法、掩模支撑模板的制造方法及框架一体型掩模的制造方法。本发明涉及的掩模的制造方法包括:(a)在掩模金属膜的一面上形成图案化的第一绝缘部的步骤;(b)在掩模金属膜的一面利用湿蚀刻以预定深度形成第一掩模图案的步骤;(c)至少在位于第一绝缘部的垂直下部的第一掩模图案内形成第二绝缘部的步骤;(d)在掩模金属膜的一面利用湿蚀刻形成从第一掩模图案贯通掩模金属膜的另一面的第二掩模图案的步骤;在步骤(a)中,在第一绝缘部图案之间进一步形成宽度小于第一绝缘部宽度的辅助绝缘部。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113737127 A
(43)申请公布日 2021.12.03
(21)申请号 202110577931.8
(22)申请日 2021.05.26
(30)优先权数据
10-2020-0
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