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本发明的实施例提供了一种镀膜设备，包括：等离子体组件，包括：第一电极组件；第二电极组件，与第一电极组件的间隙形成沉积空间，物料位于沉积空间；热丝组件，用于利用温度场使反应物分解。本发明的技术方案中，同时采用等离子体增强化学气相沉积和热丝化学气相沉积工艺对硅片进行镀膜，热丝组件能够减弱离子轰击的副作用，降低由于离子轰击导致膜层产生缺陷的可能性，且热丝组件的无离子轰击作用有利于提高沉积薄膜的质量，结合第一电极组件和第二电极组件的等离子体增强的作用，薄膜的沉积面积均匀性好，降低了热丝本身镀膜的可能性，
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113718234 A
(43)申请公布日 2021.11.30
(21)申请号 202110984829.X
(22)申请日 2021.08.24
(71)申请人 常州捷佳创精密机械有限公司
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