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2023-07-02 发布于四川
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一种无掩模光刻系统及其对应的光刻方法，包括暗箱及暗箱中的光刻子系统，子系统包括：光刻用复合光源及观察用子光源、用于生成光刻图案的数字微反射镜器件、承载基板的载物台组件、设置于载物台组件与数字微反射镜器件间的，用于曝光与直接观察的镜片组，以及其他设置于同一暗箱中的光刻辅助设备。利用数字微反射镜器件和光刻用复合光源组件直接绘制光刻图案，通过镜片组将图案进行不同比例的缩小并投影，对载物台上承载的基板进行曝光；载物台可实现XYZ轴精密位移，及Z轴精密旋转，通过载物台的调整使基板与投影透镜组的像面重合以承

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113721429 A (43)申请公布日 2021.11.30 (21)申请号 202111059163.3 (22)申请日 2021.09.10 (71)申请人大连理工大学地址

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