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本发明提供了一种芯片制程中环境友好的定影方法,包括:显影去除硅片上未曝光的光刻胶,定影除去上述工序中残留显影液及少量杂质。所述显影液为芯片行业通用显影液,即碳氢溶剂,显影温度25℃,显影时间一分钟,定影液为纯水,或纯水中复配少许醇类溶剂、醇醚类溶剂、醇醚酯溶剂、酮类溶剂及有一定挥发性的表面活性剂、非离子表面活性剂。该发明抛弃了目前行业中通用的常规有机定影液技术,而采用水性物质作为定影液,不但大大降低了常规定影液的采购成本及由此产生的危险废弃物处理成本,而且减少了芯片行业VOC的排放量,为环境友好
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113741157 A
(43)申请公布日 2021.12.03
(21)申请号 202110918731.4
(22)申请日 2021.08.11
(71)申请人 泗洪明芯半导体有限公司
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