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本发明提供晶片检查装置和晶片检查方法，精密地判定晶片的内部的改质层的形成状态。晶片检查装置具有：保持工作台，其能够在使晶片的背面侧向上方露出的状态下对晶片进行保持；点光源，其发出向保持工作台所保持的晶片的背面侧照射的光；和拍摄单元，其对从点光源发出并照射到晶片的背面上的光的反射光进行拍摄，拍摄单元包含：成像透镜，其面对保持工作台所保持的晶片；分光器，其被定位于成像透镜的成像点；和照相机，其配设在由分光器分支的第一光路上，点光源配设在由分光器分支的第二光路上，在第二光路上配设有准直透镜和聚光透镜，
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113739716 A
(43)申请公布日 2021.12.03
(21)申请号 202110569445.1
(22)申请日 2021.05.25
(30)优先权数据
2020-0935
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