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本公开涉及气相沉积设备和气相沉积方法。所述气相沉积设备包括：载体，在所述载体上安置有基底；沉积腔室，在所述沉积腔室中执行用于将沉积材料沉积到所述基底的沉积工艺；第二腔室，在所述第二腔室中搬运所述载体，在所述载体上安置有完成了所述沉积工艺的所述基底；以及第一腔室，包括机械臂，所述机械臂在真空状态下将完成了所述沉积工艺的所述基底与所述载体分离开以从所述第二腔室传送到所述第一腔室，其中，所述第二腔室始终保持真空状态。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113737150 A
(43)申请公布日 2021.12.03
(21)申请号 202110586355.3
(22)申请日 2021.05.27
(30)优先权数据
10-2020-0
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