一种晶圆曝光方法.pdfVIP

一种晶圆曝光方法.pdf

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本发明提供的一种晶圆曝光方法，在对晶圆进行曝光时，首先通过第一掩膜板将涂胶后的晶圆上的对准标记区域曝光出来，并对该对准标记区域进行显影作业，这样在进行二次曝光时，晶圆上的对准标记区域中的对准标记便可以清晰地显露出来，此时再进行曝光作业，能够精准地对晶圆进行定位，从而有效提高光刻精度。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113721431 A (43)申请公布日 2021.11.30 (21)申请号 202111032216.2 (22)申请日 2021.09.03 (71)申请人安徽光智科技有限公司

知识产权出版社有限责任公司（原名专利文献出版社）成立于1980年8月，由国家知识产权局主管、主办。长期以来，知识产权出版社非常重视专利数据资源的建设工作，经过多年来的积累，已经收藏了数以亿计的中外专利数据资源。

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