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本申请公开了MicroLED显示面板及其制备方法,MicroLED显示面板包括:玻璃基板、遮光层、缓冲层、薄膜晶体管层、钝化层、ITO连接层、公共连接层、第一金属走线以及第二金属走线。公共连接层设于ITO连接层上,其图案化形成第一电极、第二电极、VDD走线以及VSS走线;第一金属通孔和第二金属通孔均依次贯穿钝化层、介电层、缓冲层以及玻璃基板;第一金属走线填充第一金属通孔,且覆盖VDD走线;第二金属走线填充第二金属通孔,且延覆盖VSS走线。本发明采用打孔的方式,使得位于阵列基板正面的VDD走线
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113745265 A
(43)申请公布日 2021.12.03
(21)申请号 202110954274.4
(22)申请日 2021.08.19
(71)申请人 深圳市华星光电半导体显示技术有
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