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本发明提供一种真空吸附装置，包括：真空产生结构；吸附头；每一吸附头包括：定位块，定位块的第一表面上开设有一容置槽，容置槽具有远离第一表面的底壁，定位块中开设有贯孔，定位块具有与第一表面相对设置的第二表面，贯孔一端贯穿第二表面，另一端与容置槽连通；吸嘴，吸嘴至少部分容置于容置槽，吸嘴具有一底部和一侧部，底部固定于底壁上，底壁开设有第一开口，第一开口对应贯孔设置，侧部连接底部边缘，侧部远离定位块一端形成一第二开口，第二开口突伸出容置槽，吸嘴用于吸附工件；每一真空产生结构至少与一贯孔连通，每一真空产生
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113733143 A
(43)申请公布日 2021.12.03
(21)申请号 202010477698.1
(22)申请日 2020.05.29
(71)申请人 深超光电(深圳)有限公司
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