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本申请公开了一种光学邻近校正方法，其包括：提供原始光刻图案和所述原始光刻图案的光学邻近校正特征；基于所述原始光刻图案和所述光学邻近校正特征训练第一神经网络和第二神经网络；提供待校正光刻图案；交替地使用训练后的第一神经网络和训练后的第二神经网络对所述待校正光刻图案实施光学邻近校正，以获得中间掩膜图案；基于所述中间掩膜图案建立所述待校正光刻图案的光学邻近校正模型；以及基于所述光学邻近校正模型对待校正光刻图案进行光学邻近校正。本申请所公开的方法能够缩短光学邻近校正的时间。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113759657 A
(43)申请公布日
2021.12.07
(21)申请号 20201
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