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2023-07-03 发布于四川
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一种质谱装置的控制系统及方法.pdf

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本发明公开了一种质谱装置的控制系统，包括进样系统、真空系统、采集分析系统和控制软件；所述进样系统包括进样腔和主体腔，所述进样腔位置设有样品靶；所述真空系统包括三个电磁阀、分子泵和机械泵，所述机械泵与分子泵之间设有前级阀，所述进样腔上设有放气阀，所述主腔体内设有预抽阀；所述采集分析系统包括离子源和检测器，所述离子源将样品靶上的样品离子化，经过离子源散射飞行到检测器检测；所述控制软件包括质谱仪内的控制板、电脑及显示器。本发明真空系统可以使得真空区域内的压强达到3×10‑4Pa以下，而样品和基质在发出

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113745091 A (43)申请公布日 2021.12.03 (21)申请号 202111081879.3 H01J 49/04 (2006.01)

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