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本发明涉及蚀刻技术领域，提供一种金属铜表面蚀刻工艺，其步骤如下：表面微蚀处理；图案涂覆；蚀刻；表面防腐处理。其中，利用微蚀清洗剂在以下清洁条件下对铜表面进行处理，清洗温度为20～30℃，喷淋压力为1.0～1.5kg/cm2，清洗时间为30～60s；图案涂覆的步骤包括压膜、冷却暂存、曝光、撕膜、显影、液洗以及干燥；蚀刻包括一次蚀刻、补偿蚀刻、清洗、蓬松以及退膜；利用表面处理药剂在以下防腐条件下对铜表面进行处理，表面处理药剂的浓度为20％～100％，使用温度为20～30℃，喷淋压力为1.0～1.5k
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113755838 A
(43)申请公布日 2021.12.07
(21)申请号 202111061746.X
(22)申请日 2021.09.10
(71)申请人 大富
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