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本发明提供能够在膜基材上形成作为低电阻率透明电极层的透明氧化物层的带有透明电极的基板的制造方法。该带有透明电极的基板的制造方法具备以下的工序:在成膜压力Pu、成膜时的氧分压Pou下通过溅射法形成透明基底氧化物层的透明基底氧化物层形成工序和在成膜压力Pc、成膜时的氧分压Poc下通过溅射法在透明基底氧化物层上形成透明导电性氧化物层的透明导电性氧化物层形成工序,其中,在Pu、Pc、Pou和Poc满足规定式的条件下,将透明基底氧化物层和透明导电性氧化物层制膜,在膜基材上形成包含透明基底氧化物层和透明导电
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113767009 A
(43)申请公布日 2021.12.07
(21)申请号 202080022321.5 (74)专利代理机构 北京集佳知识产权代理有限
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