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本发明公开了一种掩膜版、阵列基板的制作方法及显示面板。其中，所述掩膜版包括：与所述沟道区域对应的第一曝光区、位于所述第一曝光区一侧的待形成源极的第二曝光区、位于所述第一曝光区相对的另一侧的待形成漏极的第三曝光区，以及位于所述第二曝光区部分边缘的与所述第一曝光区不重叠的第四曝光区，所述第一曝光区与所述第四曝光区均为半透光区域。本发明技术方案的掩膜版在曝光和显影的过程中，能使得部分光阻遗留在与第一曝光区和第四曝光区相对应的区域内，对待形成沟道区域和待形成源极的区域进行保护，从而保证源极的加工尺寸，提
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113759655 A
(43)申请公布日 2021.12.07
(21)申请号 202110957387.X
(22)申请日 2021.08.19
(71)申请人 惠科股份有限公司
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