氧化硅膜、阻气膜用材料及氧化硅膜的制造方法.pdfVIP

氧化硅膜、阻气膜用材料及氧化硅膜的制造方法.pdf

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本发明提供即使是薄膜也显示出高阻气性能的氧化硅膜。该氧化硅膜满足下述(1)及(2)的要件：(1)膜厚500nm以下时的水蒸气透过率(WVTR)为9.0×10‑3g/m2·天以下。(2)通过X射线光电子能谱法(XPS)测定的膜中碳浓度为3.0atom％以下。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113785085 A (43)申请公布日 2021.12.10 (21)申请号 202080019987.5 (72)发明人杉本俊　千叶洋一　田中陵二　

知识产权出版社有限责任公司（原名专利文献出版社）成立于1980年8月，由国家知识产权局主管、主办。长期以来，知识产权出版社非常重视专利数据资源的建设工作，经过多年来的积累，已经收藏了数以亿计的中外专利数据资源。

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