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本发明提供了用于降低EUV抗蚀剂的粗糙度并改善蚀刻特征的方法和系统。所述方法涉及对EUV抗蚀剂除渣、填充EUV抗蚀剂的凹陷、并用帽盖层保护EUV抗蚀剂。所得的EUV抗蚀剂具有更平滑的特征,并增加对下伏层的选择性,从而改善蚀刻特征的质量。在下伏层的蚀刻后,可去除帽盖层。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113785381 A
(43)申请公布日 2021.12.10
(21)申请号 202080032750.0 安德鲁 ·梁
(22)申请日 2020.04.
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