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根据本公开的示例实施例,提供了优化掩模的方法、设备和计算机可读存储介质。该优化掩模的方法包括:确定第一变化关系,第一变化关系表示晶圆上的图像强度的变化与掩模的变化之间的关系,掩模的变化引起图像强度的变化;确定第二变化关系,第二变化关系表示成本的变化与图像强度的变化之间的关系,成本表示利用掩模而在晶圆上形成的图形与期望在晶圆上形成的图形之间的差异;以及基于第一变化关系和第二变化关系来确定针对掩模中的元素的移动方向,以优化掩模。本公开的实施例能够快速确定用于掩模移动的方向,进而能够得到高质量的掩模以
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113779779 A
(43)申请公布日 2021.12.10
(21)申请号 202110982389.4
(22)申请日 2021.08.25
(71)申请人 全芯智造技术有限公司
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