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本发明公开了一种电致变色掺杂薄膜的新型共溅射制备方法，其步骤如下：1.使用台钻在基础靶I上均匀打孔；2.将掺杂靶II叠放在基础靶I上，组合作为叠放靶源；3.将清洗干净的ITO玻璃基底放置在真空磁控溅射设备的舱室内；4.采用真空直流磁控溅射技术对叠放靶源进行共溅射。通过以上步骤，本发明成功制备的掺杂电致变色薄膜的电致变色性能对薄膜的晶粒尺寸和表面形貌有强烈的依赖性，薄膜表现出了良好的光学调制幅度和优异的耐久性。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113774343 A
(43)申请公布日 2021.12.10
(21)申请号 202110912893.7
(22)申请日 2021.08.10
(71)申请人 北京航空航天大学
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