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本发明提供一种开放式微焦点X射线源及其控制方法,所述开放式微焦点X射线源包括:开放式射线管,开放式射线管包括阴极系统、偏转系统、聚焦系统;高压电源系统,高压电源系统用于为电子束提供发射电流I0、加速高压U0和栅压UG;真空系统,真空系统用于进行抽真空处理;控制系统,控制系统用于根据轰击阳极靶的电子束的束斑尺寸控制高压电源系统对发射电流I0、加速高压U0、偏转系统的偏转线圈电流IXY、聚焦系统的聚焦线圈电流IF进行调节,以使束斑尺寸满足预设要求。该开放式微焦点X射线源可以根据反馈参数变化对输入参数
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113793790 A
(43)申请公布日 2021.12.14
(21)申请号 202111006063.4
(22)申请日 2021.08.30
(71)申请人 无锡日联科技股份有限公司
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