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2023-07-06 发布于四川
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一种用于制备压电陶瓷的真空镀膜设备.pdf

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本发明涉及压电陶瓷技术领域，尤其为一种用于制备压电陶瓷的真空镀膜设备，包括真空镀膜室，所述真空镀膜室内侧固定连接有真空系统，所述真空镀膜室底部固定连接有旋转式工装转架，本发明中，通过设置的旋转式工装转架和磁控溅射系统，设备通过采用一体化标准设计，性能稳定，便于批量生产和运输，且采用多个平面靶，并进行圆形均匀布局设计，在镀膜过程中能够有效提高压电陶瓷薄膜制备的均匀性，采用旋转平面矩形靶，能够有效地减小靶基距，提高反应溅射沉积速率，采用射频磁控溅射镀膜，可在低气压下进行，绿色无污染，同时，也提高了溅

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113817999 A (43)申请公布日 2021.12.21 (21)申请号 202110975854.1 C23C 14/06 (2006.01) (22)申请日 2

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