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本发明涉及永磁器件表面防护技术领域,尤其涉及一种钕铁硼稀土永磁器件表面防护的真空镀膜设备及方法,首先进行稀土永磁原材料的配料、熔炼、浇筑成合金片、氢碎、混料和气流磨,气流磨后在氮气保护下用混料机混料后送到氮气保护磁场取向压机成型,成型后在保护箱内封装进行等静压,之后送入烧结炉中烧结,时效制成钕铁硼稀土永磁器件,之后再经机加工制成所要求形状的稀土永磁器件。本发明的多弧与磁控溅射混合镀层解决了单纯多弧离子镀和磁控溅射镀存在的缺陷。基于磁控溅射和多弧离子溅射法所具有的缺陷,最终可以得到表面平整光滑、致
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113838660 A
(43)申请公布日 2021.12.24
(21)申请号 202111411400.8 C23C 14/35 (2006.01)
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