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本发明提供一种旋转硅铬靶材制备方法,包括以下步骤,步骤1,将硅粉末和铬粉末按质量比例5%≤Si(wt%)≤95%并采用混合器进行混合;步骤2,对背管进行粗化加工和打底;步骤3,将背管装配到等离子喷涂设备上,设定等离子喷涂工艺,对背管进行等离子喷涂;步骤4,靶材喷涂完成后下管,对靶材进行后处理加工。通过采用硅粉和铬粉混合、背管喷砂、喷涂、后处理的流程工艺进行旋转硅铬靶材的制备加工,所得靶材相对密度≥70%,良率高,粉末利用率高,易于规模化生产。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113862621 A
(43)申请公布日 2021.12.31
(21)申请号 202111092151.0 C23C 4/08 (2016.01)
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