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一种铜铟镓硒旋转溅射靶材制备方法.pdfVIP

一种铜铟镓硒旋转溅射靶材制备方法.pdf

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    本发明提供一种铜铟镓硒旋转溅射靶材制备方法，包括以下步骤，步骤1，以Cu、In、Ga和Se为原料按比例混合，并采用真空气雾化制备出球型粉末；步骤2，对背管进行喷砂粗化；步骤3，将背管装配到喷涂设备上并选择喷涂工艺，将球型粉末喷涂在背管上形成靶材；步骤4，对靶材进行后处理加工。通过采用铜铟镓硒粉末制备、背管喷砂、喷涂、后处理的流程工艺进行铜铟镓硒靶材的制备加工，所得靶材≥98%，良率高，粉末利用率高，易于规模化生产。

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113862620 A (43)申请公布日 2021.12.31 (21)申请号 202111092127.7 (22)申请日 2021.09.17 (71)申请人 芜湖映日科技股份有限公司

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