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本文涉及EUV光掩模的制作方法。在一种制造反射型掩模的方法中,在掩模坯上方形成粘合层。掩模坯包括衬底、布置在衬底上方的反射多层、布置在反射多层上方的覆盖层、布置在覆盖层上方的吸收剂层和布置在吸收剂层上方的硬掩模层。在粘合层上方形成光致抗蚀剂图案,图案化粘合层,图案化硬掩模层,并且使用图案化的硬掩模层作为刻蚀掩模来图案化吸收剂层。光致抗蚀剂层对粘合层的粘附性高于对硬掩模层的粘附性。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116430667 A
(43)申请公布日 2023.07.14
(21)申请号 202211481930.4
(22)申请日 2022.11.24
(30)优先权数据
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