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本实用新型公开了一种光谱测量的样品研磨装置，包括研磨盘和研磨组件，所述研磨盘外端固定有支撑架，且研磨盘内开有两个内径不同的研磨槽，用于光谱测量样品多种颗粒直径研磨的所述研磨组件安装与支撑架内，本实用新型通过设计的研磨组件和研磨盘相互配合，从而实现对需要光谱测量的样品颗粒进行研磨，同时通过两个直径的研磨球在研磨槽内研磨，可以同时研磨出两种不同颗粒直径的样品，便于检测，无需二次研磨，提高效率。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 214262154 U
(45)授权公告日 2021.09.24
(21)申请号 202023313325.5
(22)申请日 2020.12.31
(73)专利权人 伏振兴
地址 75
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