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2023-07-20 发布于北京
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一种单晶硅片表面缺陷检测设备.pdf

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本实用新型公开了一种单晶硅片表面缺陷检测设备，涉及硅片表面缺陷检测技术领域，包括主箱体，所述主箱体的内部上端中间位置设有面阵相机，所述主箱体的内部中间位置设有背景光源，所述背景光源的上端设有匀光板，所述主箱体的一侧外表面设有输入支撑板，所述主箱体的另一侧外表面设有输出支撑板，所述输入支撑板及所述输出支撑板的外侧端均设有支撑辊，所述支撑辊之间连接有传送皮带，所述输入支撑板及所述输出支撑板的内部与所述传送皮带对应的位置均设有支撑板，上端所述传送皮带的下表面抵在所述匀光板及所述支撑板上，通过采集的数据

(19)国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 219369546 U (45)授权公告日 2023.07.18 (21)申请号 202320331370.8 (22)申请日 2023.02.28 (73)专利权人锦州佑华硅材料有限公司地址

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