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本实用新型公开了一种立式弯木料抛光装置，包括机架、粗抛光机构和精抛光机构，机架的顶部设有粗抛光机构，粗抛光机构的下方设有精抛光机构，所述机架包括上机架和下机架，上机架支撑在下机架上，上机架的纵截面呈“h”形；粗抛光机构包括升降气缸、纵移滑板、砂圈轴电机、砂圈轴和砂圈，精抛光机构包括第一抛光砂带卷轴、第二抛光砂带卷轴和抛光砂带。本实用新型机架采用立式结构，操作更为方便，通过设置粗砂机构和精砂机构，可实现弯木料两面粗抛光和精抛光，通过设置升降气缸驱动粗砂机构升降可便于调节砂圈与抛光砂带之间的打磨间隙
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 214265071 U
(45)授权公告日 2021.09.24
(21)申请号 202120204717.3
(22)申请日 2021.01.26
(73)专利权人 江
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