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本实用新型公开了一种用于PVD设备的可调阳极层离子源装置,属于真空镀膜设备领域。针对现有技术中存在的PVD设备辅助阳极层离子源无法在大气端在线调整角度的问题,本实用新型提供了一种用于PVD设备的可调阳极层离子源装置,包括:离子源本体,磁流体本体,伺服电机和转盘底座;所述离子源本体安装在PVD设备真空腔内,其一端连接磁流体转轴,另一端连接转盘底座;所述磁流体本体贯穿安装在PVD设备腔壁上,磁流体转轴位于磁流体本体的中心处,所述磁流体转轴在PVD设备外的一端连接伺服电机。该方案减小了PVD设备复机时
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 214271028 U
(45)授权公告日 2021.09.24
(21)申请号 202023247512.8
(22)申请日 2020.12.29
(73)专利权人 苏州迈为科技股份有限公司
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