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本实用新型涉及一种用于半导体设备零部件的真空氮气烘箱,属于烘箱技术领域,其包括包括烘箱,所述烘箱内部设有烘干室,所述烘干室与外部连通设置有箱门,所述烘箱内壁中开设有第一腔室,第二腔室和第三腔室,所述第一腔室开设于所述烘箱的底部,所述第二腔室开设于所述烘箱的内壁两侧,所述第三腔室开设于所述箱体中的上部。本装置通过支撑板能够将工件在烘箱中转动受热,使其受热更加均匀;通过第二扇叶通风管,能够对热气体进行搅动,使其分布均匀,有助于受热均匀;在降温阶段,通过第二驱动电机和第一扇叶,能够进行局部降温,当工件
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 214307887 U
(45)授权公告日 2021.09.28
(21)申请号 202022949369.0 F26B 25/02 (2006.01)
(22)申请日 2
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