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一种高场强高靶材利用率的阴极.pdfVIP

一种高场强高靶材利用率的阴极.pdf

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    本实用新型涉及磁控溅射阴极，公开了一种高场强高靶材利用率的阴极，其核心是由磁钢组和磁轭组成的磁路模块，磁钢组通过磁力与磁轭连接，磁路模块包括一个磁轭，磁钢组由五道不等距且平行放置的磁钢组成，磁钢的磁极交错设置。本实用新型提供的磁路结构使得阴极表面拥有更多的与靶材平行的磁场分量，能够对靶面进行更大面积的刻蚀，从而提升了靶材的利用率，有效节省了材料；单个靶材使用时间的延长，可以避免频繁更换靶材，降低开真空室的次数，保证生产的连续性，提高工作效率，也可以改善产品的洁净度。另外，该阴极通过五道磁钢的配合

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 209974873 U (45)授权公告日 2020.01.21 (21)申请号 20192

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