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光学挡墙结构.pdfVIP

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    本实用新型提供一种光学挡墙结构，其包括一基板、一第一挡墙层、一雷射遮蔽铜层及一第二挡墙层，基板具有一工作面，第一挡墙层形成于工作面上，且第一挡墙层围构一裸露工作面的第一开窗；雷射遮蔽铜层形成于第一挡墙层的一上表面但不形成于围构第一开窗的侧壁；第二挡墙层形成于雷射遮蔽铜层上，且第二挡墙层围构一第二开窗，第二挡墙层的横截面积小于第一挡墙层，第二开窗的轮廓大于第一开窗，且第二开窗裸露雷射遮蔽铜层的一部分。

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 209963083 U (45)授权公告日 2020.01.17 (21)申请号 20192

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