YST 718-2009平面磁控溅射靶材 光学薄膜用铌靶.pdf

ICS 77. 150. 99YSH 63中华人民共和国有色金属行业标准YS/T 718-—2009平面磁控溅射靶材光学薄膜用铌靶Flat magneting sputtering target--Niobium target for optical coating2009-12-04 发布2010-06-01实施中华人民共和国工业和信息化部发布 YS/T 718—2009前言本标准由全国有色金属标准化技术委员会提出并归口。本标准起草单位：利达光电股份有限公司。本标准主要起草人：李智超、杨太礼、付勇、段玉玲、张向东、赵伦。 YS/T 718—-2009平面磁控溅射靶材光学薄膜用铌靶1范围本标准规定了平面磁控溅射光学薄膜用铌靶材的要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存及订货单(或合同)内容。本标准适用于平面磁控溅射光学薄膜用铌靶材。2 规范性引用文件下列文件中的条款通过本标准的引用而成为本标准的条款。凡是注日期的引用文件，其随后所有的修改单（不包括勘误的内容)或修订版均不适用于本标准，然而，鼓励根据本标准达成协议的各方研究是否可使用这些文件的必威体育精装版版本。凡是不注日期的引用文件，其必威体育精装版版本适用于本标准。GB/T2040铜及铜合金板材GB/T3630铌板材、带材和箔材GB/T5121（所有部分）铜及铜合金化学分析方法GB/T5231加工铜及铜合金化学成分和产品形状GB/T 6394金属平均晶粒度测定方法GB/T15076（所有部分）钼化学分析方法3术语和定义下列术语和定义适用于本标准。搭接率 Bonding Percentage铌板与背板之间的实际接合面积占应接合面积的百分比。4　要求4.1材质背板(铜板)和板。4.2化学成分锯板的牌号及其化学成分应符合GB/T3630的规定；铜板的牌号及其化学成分应符合GB/T5231的规定。4.3靶材的尺寸及允许偏差靶材的尺寸及允许偏差由供需双方协商。4.4表面状况靶材表面粗糙度及平面度由供需双方协商。4.5外观质量锯板和铜板的外观质量应分别符合GB/T3630和GB/T2040的规定。4.6平均晶粒度铌板的平均晶粒尺寸应不大于100μm。1 YS/T 718—20094.7搭接率铌板与铜板的搭接率不小于95%,其中单个不良接触区域的面积不大于总搭接面积的2.5%。5 试验方法化学成分仲裁分析方法铌板和铜板的化学成分分析分别按GB/T15076和GB/T5121的规定进行。5.2靶材的尺寸及其允许偏差靶材的尺寸及其允许偏差用相应精度的量具测量。5.3靶材的表面状况靶材的表面状况按供需双方认可的方法检验。5.4靶材外观质量检验靶材的外观质量用目视法检验。5.5铌板平均晶粒尺寸铌板平均晶粒尺寸的检验，按GB/T6394的规定进行。5.6锯板与铜板的搭接率检测铌板与铜板的搭接率检验用超声波探伤法检测。6检验规则6.1检查和验收6.1.1靶材应由供方技术监督部门进行检验，保证产品质量符合本标准及订货单（或合同）的规定，并填写质量证明书。6.1.2需方应对收到的产品按本标准的规定进行检验。如检验结果与本标准或订货单（或合同)的规定不符时，应在收到产品之日起30天内向供方提出，由供需双方协商解决。如需仲裁，供需双方应在需方取样。6.2组批靶材应成批提交检验，每批不少于50kg。6.3检验项目每批产品的检验项目及取样数量见表1。表1检验项目及取样数量检验项目取样数量与取样位置要求的章条号试验方法的章条号化学成分每批1份4.25. 1逐件4.35. 2尺寸及允许偏差表面状况逐件4.45. 3外观质量逐件4. 55. 4平均晶粒度每批1件4.65. 5搭接率逐件取样a）同批产品在200 kg以上者，按10%的件数取出；b）同批产品在200kg以下，按20%的件数取出。6.5 检验结果的判定6.5.1化学成分检验不合格，判该批不合格。2 YS/T 718-—20096.5.2尺寸及其允许偏差检验不合格，判该件不合格。6.5.3靶材外观质量检验不合格，判该件为不合格。6.5.4表面状况检验不合格,判该件不合格。6.5.5晶粒度检验不合格，判该批为不合格。6.5.6搭接率检验不合格,判该件为不合格。7标志、包装、运输、贮存7.1 标志每件靶材的包装上应注明：a）供方名称；b）产品名称；c）生产批号;d）商标。7.2包装、运输、贮存a）每件靶材采用双层透明洁净塑料袋包装,并应抽真空；b）靶材放人专用包装箱内，必须防碰撞、防震动；c）产品运输时必须防潮、防压、防止污染。7.3质量证明书每批靶材出厂时应附质量证明书，其上注明：a）供方名称;b）产品名称；生产批号；d）净重和件数；e)分析检验结果和技术监督部门印记；本标准编号;g）出厂日期。8　订货单(或合同)内容订购本标准所列材料的订货单(或合同)内应包括以