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本发明涉及晶圆加工技术领域,具体公开了一种带压力传感系统的晶圆研磨抛光机,包括压力传感系统,其包括数据获取单元和数据分析单元,数据获取单元用于接收加工过程中与抛光垫接触的晶圆侧壁对载具产生的压力参数以及其他相关参数;数据分析单用于对压力参数以及其他相关参数进行分析并输出分析结果,本发明的压力传感系统会收集设备运行时产生的相关参数,通分析判断每个处于加工状态的晶圆是否加工完成,对应加工完成的合格晶圆,通过提升组件使晶圆位置提升脱离与抛光垫的接触状态,从而避免过度加工,同时保护了抛光垫,提升了抛光垫
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116551559 A
(43)申请公布日 2023.08.08
(21)申请号 202310177280.2 B24B 37/005 (2012.01)
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