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丹青不知老将至,贫贱于我如浮云。——杜甫
_
第 7 章 金属-半导体接触
本章讨论与 pn 结特性有很多相似之处的金-半肖特基势垒接触。金-半肖特基势垒接触的
整流效应是半导体物理效应的早期发现之一:
§7.1 金属半导体接触及其能级图
一、金属和半导体的功函数
1、金属的功函数
在绝对零度,金属中的电子填满了费米能级 E 以下的所有能级,
F
图7-1 金属中的电子势阱
而高于 E 的能级则全部是空着的。在一定温度下,只有 E 附近的少
F F
数电子受到热激发,由低于 E 的能级跃迁到高于 E 的能级上去,但仍不能脱离金属而逸出体外。
F F
要使电子从金属中逸出,必须由外界给它以足够的能量。所以,金属中的电子是在一个势阱中运
动,如图 7-1 所示。若用 E 表示真空静止电子的能量,金属的功函数定义为 E 与 E 能量之差 ,
0 0 F
用 W 表示:
m
W E E
M 0 FM
它表示从金属向真空发射一个电
W
子所需要的最小能量。 M 越大 ,
电子越不容易离开金属。
金属的功函数一般 为几个
电子伏特,其中,铯的最低,为
图7 -2 一些元素的功函数及其原子序数
1.93eV ;铂的最高,为 5.36 eV。
图 7-2 给出了表面清洁的金属的功函数。图中可见 ,功函数随着原子序数的递增而周期性变化。
2、半导体的功函数
和金属类似,也把 E 与费米能级之差称为半导体的功函数,用 W 表示,即
0 S
老当益壮,宁移白首之心;穷且益坚,不坠青云之志。——唐·王勃
勿以恶小而为之,勿以善小而不为。——刘备
_
W E E
S 0 FS
因为 E 随杂质浓度变化,所以 W 是杂质浓度的函数。
FS
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