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防气体混杂的多靶位磁控溅射镀膜机改进结构.pdfVIP

防气体混杂的多靶位磁控溅射镀膜机改进结构.pdf

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    本实用新型公开了一种防气体混杂的多靶位磁控溅射镀膜机改进结构，包括箱体、放料盘、收料盘、镀膜保护罩、转轴、四组靶材组件和若干个隔离挡板，镀膜保护罩设于箱体内部上方，放料盘、收料盘设于箱体内部下方且位于镀膜保护罩两侧，转轴设于镀膜保护罩内部正中处，膜材从放料盘引出并绕过转轴后系挂在收料盘上，四组靶材组件均匀分布设置在镀膜保护罩内，若干个隔离挡板都卡设在镀膜保护罩内且位于靶材组件两侧；不同靶材通过挡板隔离防止气体混杂，可多靶位同时镀膜，生产效率高，相互之间互不影响镀膜效果好，产品质量高良品率高，材料

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 210176941 U (45)授权公告日 2020.03.24 (21)申请号 20192

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