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本实用新型公开了一种斜坡上立体足迹制模提取装置,属于足迹提取装置领域,一种斜坡上立体足迹制模提取装置,包括左挡板,左挡板的右侧表面设有左滑槽,左滑槽为T型槽,左挡板的上端表面设有伸缩槽,左挡板的左侧表面设有限位槽,限位槽的宽度大于第一螺纹杆的直径,它设置的伸缩板具有伸缩的功能,可以增加左挡板的高度,在斜坡上提取立体足迹时,可以避免石膏原料溢出提取装置,并且设置的套板和卡板具有移动和伸缩的功能,可以根据实际需要调节装置的长度和宽度,而且由左挡板、右挡板和对称的两个套板和卡板合围起来制备出的石膏模型
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 210249849 U
(45)授权公告日
2020.04.07
(21)申请号 20192
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