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本实用新型公开了一种硅片烘干装置及硅片刻蚀机,该硅片烘干装置包括氢氟酸槽、水洗槽、烘干槽和运输机构。氢氟酸槽的上方设有氢氟酸喷头,水洗槽的上方设有水洗喷头,水洗喷头通过连接管与水洗槽相连,烘干槽的上方设有冷风喷头和热风喷头,运输机构用于运输硅片。氢氟酸槽、水洗槽及烘干槽沿硅片的运输方向依次排布,冷风喷头位于热风喷头的上游;运输机构包括多个运输辊,运输辊包括依次与氢氟酸槽、水洗槽及烘干槽对应设置的第一辊组、第二辊组及第三辊组,第三辊组的运输辊的上边缘高于第一辊组及第二辊组的运输辊的上边缘。该烘干装
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 210516685 U
(45)授权公告日
2020.05.12
(21)申请号 20192
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