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本发明公开一种厚光刻胶的涂布方法,包括以下步骤:1)对待涂胶的晶圆进行预处理;2)采用分步滴胶的方法在预处理后的晶圆表面滴涂光刻胶;3)滴胶完成后,控制所述晶圆转动,令光刻胶成膜;4)对所述晶圆进行清洗、去边和干燥处理,得到涂覆有光刻胶的晶圆。本发明解决了现有低黏度厚光刻胶涂布方式造成的光刻胶厚度不稳定和光刻胶易堆积在晶圆边缘的问题,改善了光刻胶膜厚稳定性和均匀性。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116859673 A
(43)申请公布日 2023.10.10
(21)申请号 202310582097.0
(22)申请日 2023.05.23
(71)申请人 重庆中科渝芯电子有限公司
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