扫描电镜(共53张PPT).pptx

第四章扫描电镜;2 ;电子束经三个电磁透镜聚焦后，成直径为几个纳米的电子束。 末级透镜上部的扫描线圈能使电子束在试样表面上做光栅状扫描。 试样在电子束作用下，激发出各种信号，信号的强度取决于试样表面的形貌、受激区域的成分和晶体取向。 在试样附近的探测器把激发出的电子信号接受下来，经信号处理放大系统后，输送到显像管栅极以调制显像管的亮度。 由于显像管中的电子束和镜筒中的电子束是同步扫描的，显像管上各点的亮度是由试样上各点激发出的电子信号强度来调制的，即由试样表面上任一点所收集来的信号强度与显像管屏上相应点亮度之间是一一对应的。因此，试样各点状态不同，显像管各点相应的亮度也必不同，由此得到的像一定是试样状态的反映。 ;SEM原理与TEM的主要区别： ;5 ;6 ;7 ;8 ;9 ;10 ; （1）．放大倍数 荧光屏上的扫描振幅 电子束在样品上的扫描振幅 放大倍数与扫描面积的关系： (若荧光屏画面面积为10×10cm2) 放大倍数 扫描面积 10× (1cm)2 100× (1mm)2 1,000× (100μm)2 10,000× (10μm)2 100,000× (1μm)2 ;12 ;13 ;14 ;15 ;16 ;17 ;18 ;19 ;20 ;元素像;22 ;样品制备;样品制备;样品制备;样品制备;样品制备;28 ;29 ;30 ;X射线谱仪是电子探针的信号检测系统，分为：;33 ;在Si(Li)晶体两端偏压来收集电子空穴对→（前置放大器）转换成电流脉冲→（主放大器）转换成电压脉冲→（后进入）多通脉冲高度分析器，按高度把脉冲分类，并计数，从而描绘I－E图谱。 ;35 ;36 ;38 ;39 ;40 ;41 ;镁合金中的析出相Mg2Si的鉴别 ;43 ;44 ;45 ;作用：收集(探测)样品在入射电子束作用下产生的各种物理信号，并进行放大。 放大倍数 扫描面积 X射线谱仪是电子探针的信号检测系统，分为： 因此，试样各点状态不同，显像管各点相应的亮度也必不同，由此得到的像一定是试样状态的反映。 在试样附近的探测器把激发出的电子信号接受下来，经信号处理放大系统后，输送到显像管栅极以调制显像管的亮度。 放大倍数 扫描面积 二次电子像的衬度可以分为以下几类： (4)磁衬度(第一类) 类似电视摄影显像的方式。 （2）分辨率 ：样品上可以分辨的两个邻近的质点或线条间的距离。 试样在电子束作用下，激发出各种信号，信号的强度取决于试样表面的形貌、受激区域的成分和晶体取向。;47 ;一般玻璃材料，纤维材料，高分子材料以及陶瓷材料几乎都是非导电性的物质。 3．信号检测放大系统 如何测量：拍摄图象上，亮区间最小暗间隙宽度除以放大倍数。 (2) 入射电子能量E0 可以采用横向静电场，也可采用横向磁场。 3．掌握二次电子像、背散射电子像的像衬原理、特点、分析方法及应用； 像的衬度：像的各部分(即各像元)强度相对于其平均强度的变化。 (3)定量分析精度不如波谱仪。 由电子抢、电磁聚光镜、光栏、样品室等部件组成。 SEM的主要性能指标 (b)Bi元素的X射线面分布像 SEM（二次电子像）的景深比光学显微镜的大，成像富有立体感。;49 ;50 ;精品课件！;精品课件！;1．理解扫描电子显微镜的工作原理、结构与组成，掌握表征仪器性能的主要技术指标。 2．熟悉扫描电子显微镜的样品制备方法。 3．掌握二次电子像、背散射电子像的像衬原理、特点、分析方法及应用；了解其它电子像的像衬原理、特点、分析方法及应用。 4．了解波谱仪和能谱仪的工作原理，掌握它们的应用特点。 5．电子探针的点分析、线分析和面分析的应用