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本发明公开了一种基于PECVD的薄膜沉积方法以及太阳能电池的薄膜沉积方法。根据本发明的基于PECVD的薄膜沉积方法,对基材的表面进行沉积镀膜,包括如下步骤:将所述基材置于镀膜腔中;对所述镀膜腔进行抽真空;往所述镀膜腔中通入工艺气体;使射频电源以不同的脉冲比交替地进行输出;在所述脉冲比当中,至少包括第一脉冲比以及第二脉冲比,所述第二脉冲比比所述第一脉冲比大,所述射频电源以所述第一脉冲比以及所述第二脉冲比交替地进行输出。根据本发明的基于PECVD的薄膜沉积方法,能够在一定程度上兼具薄膜的膜厚均匀性以
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116875962 A
(43)申请公布日 2023.10.13
(21)申请号 202310697791.7
(22)申请日 2023.06.13
(71)申请人 深圳市捷佳伟创新能源装备股份有
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