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本实用新型公开了一种光刻胶涂布装置。所述光刻胶涂布装置包括:转轴、涂布平台和转筒,所述涂布平台水平设置并能够绕所述转轴转动,以带动放置在所述涂布平台上的玻璃基板旋转,所述转筒包括从内朝外向下倾斜设置的筒底、设置在所述筒底外沿的筒壁以及设置在所述筒底和所述筒壁交汇处的排放管,所述筒底的内沿与所述涂布平台的外沿连接,所述排放管上设置有阀门。所述光刻胶涂布装置能有效回收多余的光刻胶,大大节约了成本。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 210666332 U
(45)授权公告日
2020.06.02
(21)申请号 20192
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