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半导体工艺与制造技术
Semiconductor Process and Manufacturing Technology
韩郑生
zshan@
1
简介
中国科学院微电子研究所研究员、博士生导师、学术委员会委员、学
位委员会副主席,中国科学院硅器件技术重点实验室学术委员会副主任兼
首席科学家,中国科学院可靠性保障中心副主任兼第二分中心主任
中国科学院大学岗位教授、校级教学督导委员会委员、电子电气与通
信工程学院教学委员会委员、集成电路工艺技术研究室主任,微电子学院
学术委员会委员、教学指导委员会委员
获国家技术发明二等奖1项, 国防科学技术二等奖1项, 北京市科学技术
一等奖1项,国家特殊津贴获得者
专著 《抗辐射集成电路概论》,译著 《半导体制造技术》、 《芯片制
造-半导体工艺制程实用教程》、 《功率半导体器件基础》、 《空间单粒
子效应》、 《现代电子软错误》
发表论文100余篇、授权专利100余项、培养研究生50余名
2
教学目的和要求
本课程为微电子学及半导体相关技术学科研究生的专业基
础课。在半导体器件物理与电路设计的基础上讲述半导体制造
技术的基本原理、途径与集成方法。让学生了解半导体器件与
集成电路(IC) 的制作方法,理解主要单项工艺技术的基本科学
原理,掌握CMOS微电子器件的工艺集成流程,学习相关工艺
分析方法,同时锻炼学生进行先进半导体制造开发设计的初步
能力,为后继高级课程学习与研究工作开展奠定基础。
3
教材及参考书
《微纳尺度制造工程》坎贝尔著
(电子工业出版社2011 )
《半导体制造技术》韩郑生等译(电子工业出版社2009 )
《超大规模集成电路工艺技术――理论、实践与模型》
James D. Plummer等著(电子工业出版社 2003 )
《Silicon Processing for the VLSI Era》S. Wolf编著
(Lattice Press,1998)
《半导体材料》杨树人等编著(科学出版社2004 )
4
教学方式与成绩评定
• 教学方式
课堂讲授为主,每周3学时
• 成绩评定
期末考试:80%,作业:20 %
• 考试形式
课堂开卷考试
内容
1.引言
1.1 半导体技术和产品的重要地位及概况
1.2 半导体产业历史及发展趋势
1.3 晶圆制造5个阶段
2 基本材料知识
2.1 相图与固溶度
2.2 结晶学与晶体结构
2.3 晶体缺陷
3 晶圆制备
3.1 直拉法单晶生长
3.2 布里奇曼法生长GaAs
3.3 区熔法单晶生长
3.4 晶圆制备和规格
3.5 清洗工艺 6
1 引言
• 1956.8周恩来总理主持制定“十二年科学技术发展规划”半导体技术
四个优先发展领域之一
• 2000年国务院18号文 《鼓励软件产业和集成电路产业发展若干政策》
• 2011年国务院4号文 《关于印发进一步鼓励软件产业和集成电路产业
发展若干政策的通知》
• 2014.6.24 国务院正式发布 《国家集成电路产业发展推
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